台灣氣體有限公司依客戶要求之組成來配製所需之電子氣體、半導體氣體(研究、合成、純化、混合、分析、和包裝),並研究開發創新的應用科技以持續擴大電子氣體、半導體氣體產品組合 ,用以下標準定義前述電子氣體、半導體氣體之標準件,其供應皆可追溯至「美國國家標準技術研究院(NIST)」或「歐盟標準技術研究院」或可直接追溯至台灣之「國家度量衡標準實驗室(NML)」或台灣氣體實驗室或台灣檢驗科技股份有限公司SGS認證,以提供具追溯性之電子氣體、半導體氣體讓客戶使用。
電子氣體、半導體氣體使用在電子、半導體、晶片、光學、光電、製造、高科技公司、同位素、面板、太陽能、LED、食安、食品、發酵、酵素、酒類、酒品、飲料、氣泡、氣泡水、實驗、實驗室、檢驗、儀器、設備、環境、環保、醫療、醫學、製藥、保健、水利、生物技術、生化、煉油、石油、石化、化工、化肥、化學、核能、電力、發電、天然氣、採礦、建築、玻璃、煉鋼、金屬、焊接、國防、漆彈、氣彈、氣球、航空航天、顧問公司、民生、資源、回收、工安、工業、各種工廠、各種公司 …等,台灣氣體有限公司生產製造提供給國內及國外之客戶氣體使用的需求 電子、半導體、電路、晶元、光電、光學、科技等工業用的氣體稱為電子氣體、半導體氣體,電子氣體三大類分為純氣,高純氣和半導體特殊材料。 特殊材料氣體主要用於外延,摻雜和蝕刻工藝;高純氣體主要用作稀釋氣和運載氣。我們稱為電子氣體、半導體氣體 電子氣體是特種氣體的一個重要分支。電子氣體按純度等級和使用場合,可分為電子級,LSI大規模集成電路級,VLSI超大規模集成電路級和ULSI特大規模集成電路級。 電子氣體是發展集成電路、光電子、微電子,特別是超大規模集成電路、液晶顯示器件、半導體發光器件和半導體材料製造過程中不可缺少的基礎性支撐源材料,電子氣體的純度和潔淨度直接影響到光電子、微電子元器件的質量、集成度、特定技術指標和成品率,並從根本上制約着電路和器件的精確性和準確性 。 近幾年來,智研數據研究中心隨着我國超大規模集成電路、平板顯示器、光伏發電等產業的迅速發展,電子氣體市場需求量明顯增長,電子特種氣體的國產化已是大勢所趨。 目前電子、半導體、電路、晶元、光電、光學、科技…等工業用主要使用的電子氣體有:硅烷、氨氣、四氟化碳、六氟化硫、氯化氫、八氟環丁烷、甲烷、一氧化二氮、三氯化硼、溴化氫、一氧化碳、氖氣、氪氣、氦氣、氙氣、氬氣、氮氣、氫氣、二氧化碳、兩種到數十種的混合氣…等。 台灣氣體有限公司生產製造電子氣體、半導體氣體供應給國內、國外之電子公司、半導體公司、科技公司…等。
氨(Ammonia)、氬氣(Argon)、砷化氫(Arsine)、三氯化硼(Boron Trichloride)、三氟化硼(Boron Trifluoride)、二氧化碳(Carbon Dioxide)、一氧化碳(Carbon Monoxide)、羰基硫COS(Carbonyl Sulfide)、氯氣(Chlorine)、氘氣(Deuterium)、二氯矽烷(Dichlorosilane)、二氟甲烷(Difluoromethane)、乙矽烷(Disilane)、乙烷(Ethane)、乙烯(Ethylene)、甲鍺烷(Germane)、氦氣(Helium)、六氟乙烷(Hexafluoroethane)、氫氣(Hydrogen)、溴化氫(Hydrogen Bromide)、氯化氫(Hydrogen Chloride)、氟化氫(Hydrogen Fluoride)、硒化氫(Hydrogen Selenide)、硫化氫(Hydrogen Sulfide)、氪氣(Krypton)、甲烷(Methane)、氟甲烷(Methyl Fluoride)、甲基矽烷(Methyl Silane)、氖氣(Neon)、一氧化氮(Nitric Oxide)、氮氣(Nitrogen)、三氟化氮(Nitrogen Trifluoride)、八氟環丁烷(Octafluorocyclobutane)、八氟環戊烯(Octafluorocyclopentene)、氧氣(Oxygen)、八氟丙烷(Perfluoropropane)、丙烯(Propylene)、甲矽烷(Silane)、丙矽烷(Silcore)、四氯化矽(Silicon Tetrachloride)、四氟化矽(Silicon Tetrafluoride)、六氟化硫(Sulfur Hexafluoride)、四氟甲烷(Tetrafluoromethane)、三氯甲矽烷(Trichlorosilane)、三氟甲烷(Trifluoromethane)、三甲基矽烷 (Trimethylsilane)、六氟化鎢(Tungsten Hexafluoride)、氙(Xenon)
SiH4, SiH2CL2, SiH6, PH3, B2H6, ASH3, NH3, NO, CO2, BCL3, CL2, HCL, HBr, CO, CH4, H2S, GeH4, NF3, SiF4, SF6, H2Se, CF4, C2F6, C3F8, CHF3, O2, N2, Ar, He, H2